高纯金属锂溅射靶材，采用真空惰性工艺精制，纯度可达 4N，材质致密纯净、杂质精准可控。

形制规格丰富多样：圆形、方形、管状、异形均可定制。

适配各类磁控溅射及 PVD 镀膜设备，溅射性能稳定，成膜均匀致密，广泛应用于固态电池、精密电子等高端镀膜领域。

氩气或真空密封内包装，辅以防潮剂与防撞木箱，最外层加装钢桶。

适配半导体、新能源、光学镀膜、精密电子及高端装备等领域的功能性薄膜制备需求。