锂系合金溅射靶材采用真空惰性气氛熔炼与精密加工制备，成分均匀、致密度高、杂质可控。

合金体系：锂镁、锂铝、锂铟、锂锌、锂硅等，成分配比完全按客户需求定制。

形状：圆形、方形、环形、管状、异形、绑定靶材均可定制。

纯度：4N – 5N 可选，满足高端镀膜需求。

溅射速率稳定，膜层成分均匀，结合力强。

内包装：真空/充高纯氩气密封，加干燥剂。

防护：防震泡沫 + 防潮木箱。

外包装：加固密封钢桶。

固态电池薄膜负极、半导体功能膜、光学薄膜、精密电子器件、新能源镀膜等。